Plasma Source 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
2023.03.07 09:48
기초적인 질문이지만 답변 해주시면 정말 감사하겠습니다.
1. 챔버 시즈닝을 SiO2로 했을때, 플라즈마를 인가하면 플라즈마의 영향으로 챔버시즈닝이 각 O2-와 Si4+로 분해가 일어날수있나요?
일어난다면 흔한일일까요 ??
2. 1번과 같은 관점에서 플라즈마 gas를 각각 N2 , H2 로 인가한다면, 제가 생각하기에는 수소원자가 질량이 낮으니 O를 떼어 낼 만한 힘이 없어서 N2 는 1과같은 일이 발생할수 있을거 같고, H2는 힘들것 같은데 어떤것이 맞는지 궁금합니다
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77200 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20463 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57359 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68898 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92945 |
806 | Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. | 6 |
805 | CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] | 13 |
804 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 22 |
803 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 36 |
802 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 36 |
801 | Druyvesteyn Distribution | 47 |
800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 52 |
799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 58 |
798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 60 |
797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 67 |
796 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 70 |
795 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 76 |
794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 81 |
793 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 86 |
792 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 86 |
791 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 90 |
790 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 91 |
789 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 102 |
788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 110 |
787 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 117 |