안녕하십니까 교수님, 현재 반도체 공정 분야를 전공하고 플라즈마 전공에 대해 관심이 생겨 공부를 하고있는 전자공학과 학부생 4학년 입니다. 다름이 아니라 LXcat에서 Biagi, Bsr, Lisbon, Hayashi, Triniti 총 5가지의 Cross section을 가지고 Comsol Simulation Tool을 통해 플라즈마 방전 시뮬레이션을 진행하였습니다. 그 결과 각 Dataset 마다 Electron density, Electron Temperature, Volatge 등이 각각 다르게 나타나는 결과를 확인할 수 있었습니다.

 

또한 각 Dataset에 대한 Simulation을 진행하였을 때 LXcat에 존재하는 TRINITI Metastable Excitation Cross section을 각 DataSet에 추가하였고 그 결과 Metastable excitation cross section을 추가하지 않았을 때 보다 Electron density는 증가하고 전자온도는 감소하는 것을 확인할 수 있었는데 이러한 결과가 나타나게된 원인이 무엇인지 궁금합니다.

 

다르게 나타난 원인에 대해 고민해본 결과 우선적으로 Set 별로 가지고 있는 Excited State 개수가 다르기 때문에 차이가 발생한 것이라는 결론을 내려보았지만 세부적인 부분에 대해서는 해결을 하지 못하여 이렇게 질문을 드리게 되었습니다. 또한 각각의 Dataset 별로 Electron density, Electron Temperature, Voltage가 다르게 나타나는 이유에 대해 여쭤봐도 되겠습니까?

 

바쁘신 와중에도 긴 글 읽어주셔서 정말 감사드립니다.

 

조형준 올림.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77059
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20378
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57289
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68834
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92835
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 414
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 532
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 737
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 653
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 452
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 329
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 367
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 610
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 278
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 367
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 259
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 637
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 591
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 352
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 508
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 376
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 737
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 606
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 410
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 192

Boards


XE Login