Plasma in general Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?

2023.06.23 11:23

이승인 조회 수:612

안녕하세요 저는 현재 PECVD 장비를 사용하는 연구원입니다.

 

어플라이드社의 PRODUCER-S 설비로 ACL 공정을 Set-up하고 있습니다.

 

Unif를 잡기위해서 압려과 RF Power를 건드려 가며 조정 중에 있는데

 

RF Ref가 어떤 조건에서는 높게 뜨고 어떤 조건에서는 낮게 뜨는데 어떤 조건이 영향을 미칠까요?

 

알려주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77113
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20410
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57321
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68861
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92881
141 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 641
140 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 640
139 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
138 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 635
137 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 632
136 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 627
135 RF Sputtering Target Issue [2] file 624
134 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 624
133 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 621
132 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 619
131 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 618
130 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 613
129 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 613
» Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 612
127 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 603
126 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 601
125 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 601
124 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 600
123 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 599
122 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 598
쓰기
태그

Boards

XE Login