Chamber Impedance CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의
2023.11.21 14:54
안녕하세요.
ETCH 공정 CCP 설비 관련하여 Plasma 변동성 해석 중인데, 아래와 같은 경우 HF/LF Vpp 값이 어떻게 변화하는지 알 수 있을까요?
어떤 원리에 의해서 그런 변화가 발생하는지도 궁금합니다.
- 특정 부품(Edge Ring)의 Capacitance 감소 → Impedance 증가 → HF Vpp? LF Vpp? (증가? or 감소?)
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77308 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20506 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68958 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92989 |
110 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] ![]() | 21130 |
109 | ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] | 21225 |
108 | Xe 기체를 사용한 플라즈마 응용 | 21332 |
107 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21345 |
106 | 플라즈마 측정기 [1] | 21349 |
105 | 플라즈마 실험 | 21356 |
104 | Breakdown에 대해 | 21413 |
103 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
![]() | 21428 |
102 | CCP 에서 Area effect(면적) ? | 21440 |
101 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21524 |
100 |
F/S (Faraday Shield)
![]() | 21551 |
99 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21555 |
98 | ccp-icp | 21591 |
97 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21663 |
96 | manetically enhanced plasmas | 21666 |
95 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21789 |
94 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21944 |
93 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21970 |
92 | 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 | 22021 |
91 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22110 |