Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유

2023.12.18 02:36

Lkh 조회 수:796

안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77307
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20505
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68953
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92989
670 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 635
669 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 635
668 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 637
667 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 642
666 RF Sputtering Target Issue [2] file 643
665 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 647
664 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 654
663 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 655
662 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 656
661 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 662
660 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 672
659 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 689
658 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 693
657 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 694
656 plasma 공정 중 색변화 [1] 701
655 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 702
654 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 705
653 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 708
652 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 716
651 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 718
쓰기
태그

Boards

XE Login