Etch Etch Plasma 관련 문의 건..
2024.02.13 10:49
안녕하세요,
반도체 장비 회사에 다니고 있는 엔지니어 입니다.
저희 etch 설비(ICP TYPE)가 아래와 같이 Power 및 주파수를 사용하고 있는데
현 상태에서 주파수만 위 아래 변경하면 어떤 효과가 있을지... 궁금하여 질문 드립니다..
답변해 주시면 감사하겠습니다..
현) RF 100W(2Mhz), Bias 150W(13.56MHz) -> 변경) RF 100W(13.56Mhz), Bias 150W(2MHz)
댓글 1
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