안녕하세요 반도체 장비사를 다니고 있는 엔지니어입니다

RF 대해서 전문가 분들께 의견을 듣고 싶어서 글을 쓰게되었습니다. 지식이 부족한 상태에서 글을 적는 점 양해 부탁드립니다

 

- 배경 : RF MATCHER SHUNT, SERIES 불량

- 문제 : RF MATCHER와 전극을 연결하는 RF LOD가 있는데 RF MATCHER를 잘못장착하면 LOD가 처지게 되는 경우가 있음

          이렇게 된 상태에서 장기간 사용시 SHUNT, SERIES 불량해지는것같음

- 이유 : LOD가 처지지않게 장착하면 SHUNT, SERIES 양호해짐

 

이런 이유로 본사 엔지니어에게 설계 수정을 요청했는데 아무래도 전기적 변화를 수치화하는 근거가 없다보니 설명이 부족한 것 같습니다

우선은 타당한 근거인지도 확신이 없는데 이러한 현상에 대해 어떻게 생각하시는지와 이것을 해석할 수 있는 방법을 제시해 주실수있으련지요? 두서없는글 읽어주셔서 고맙습니다20250121_220437.jpg

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 98433
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23882
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60559
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72435
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103194
832 PEALD 챔버 세정법 [1] 77
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 123
» RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 160
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 240
828 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 369
827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 257
826 DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 207
825 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 326
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 168
823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 622
822 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 355
821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 413
820 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 502
819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 659
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 780
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 407
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 501
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 620
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 554
813 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 404

Boards


XE Login