|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[322]
| 87364 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22736 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 59436 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 71231 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 98711 |
|
548 |
Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp]
[2] | 1338 |
|
547 |
플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation]
[1] | 10541 |
|
546 |
[RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma]
[1] | 2977 |
|
545 |
O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation]
[1] | 1101 |
|
544 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas]
[1] | 4302 |
|
543 |
자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy]
[1] | 727 |
|
542 |
Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution]
[1] | 2631 |
|
541 |
플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement]
[1] | 2464 |
|
540 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4255 |
|
539 |
플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine]
[2] | 11774 |
|
538 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
[1] | 1642 |
|
537 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath]
[1] | 2932 |
|
536 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field]
[1] | 590 |
|
535 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
[1] | 1333 |
|
534 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
[2] | 3794 |
|
533 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
[1] | 6653 |
|
532 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 1487 |
|
531 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
[1] | 2674 |
|
530 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 2220 |
|
529 |
질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 22592 |
