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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[338]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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538 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance]
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537 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath]
[1] | 4704 |
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536 |
H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field]
[1] | 2214 |
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535 |
Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어]
[1] | 3554 |
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534 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher]
[2] | 9125 |
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533 |
O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]
[1] | 8102 |
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532 |
Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity]
[1] | 3503 |
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531 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma]
[1] | 4911 |
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530 |
쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath]
[1] | 4484 |
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529 |
질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 25197 |
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528 |
CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information]
[1] | 4435 |
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527 |
KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion]
[1] | 3057 |
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526 |
remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown]
[1] | 17047 |
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525 |
RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage]
[3] | 3671 |
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524 |
Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance]
[1] | 4205 |
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523 |
안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power]
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522 |
산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD]
[1] | 2811 |
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521 |
플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI]
[2] | 2848 |
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520 |
Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
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519 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity]
[1] | 5238 |
