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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.
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HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정]
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Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset]
[1] | 6412 |
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간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database]
[1] | 2284 |
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matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance]
[1] | 15250 |
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Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리]
[1] | 2631 |
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Hollow Cahthode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [장치 setting과 전극재료]
[1]  | 3317 |
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에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
[1] | 21853 |
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매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model]
[1] | 2887 |
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ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [Etch와 IEDF]
[2] | 5613 |
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진학으로 고민이 있습니다. [복수전공]
[2] | 3085 |
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플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [Skin depth, global model과 floating potential]
[2] | 2907 |
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Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [Flow rate와 moral ratio, resident time]
[1] | 5391 |
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전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [핵융합 연구소]
[1] | 2379 |
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ICP reflecot power [Insulator와 rf leak]
[1] | 4159 |
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503 |
압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
[1] | 4353 |
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Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher]
[1] | 16049 |
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Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization]
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공정플라즈마 [플라즈마 입자 거동 및 유체 방정식]
[1] | 3063 |
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임피던스 매칭회로 [전기공학 회로 이론 및 impedance matching]
[1] | 5096 |
