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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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전쉬스에 대한 간단한 질문 [Debye length 및 sheath 형성]
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CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [Plasma chemistry]
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glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD]
[2] | 4446 |
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plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
[2] | 6655 |
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대학원 진학 질문 있습니다. [전공 설계]
[2] | 2756 |
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질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포]
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chamber impedance [장비 임피던스 데이터]
[1] | 4612 |
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PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [하전에 의한 전기장 형성 및 방전 시간]
[1] | 6584 |
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 4703 |
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매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 5035 |
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Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [충돌 거리 및 Deposition]
[1] | 2844 |
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화]
[2] | 8524 |
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EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy]
[1] | 4853 |
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ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속]
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matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
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482 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
[1] | 3368 |
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wafer bias [Self bias]
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Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
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