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208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23362
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21307
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 24023
205 질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp] [1] 19330
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서 [Equilibrium과 collision] [1] 21474
203 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure] [1] 24938
202 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [ESC와 capacity] [3] 26615
201 몇가지 질문있습니다 16633
200 플라즈마내의 전자 속도 [Self bias] [1] 22122
199 Plasma Gas의 차이점 [플라즈마 화학 반응 및 에너지 전달] [1] 18286
198 matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] 29917
197 TMP에 대해 다시 질문 드립니다. 18399
196 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! 19424
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194 Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술] [1] 22694
193 플라즈마 측정기 [How Langmuir Probe Works] [1] 21460
192 Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown] [2] 22433
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190 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리] [1] 24910
189 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [전자 가열 매커니즘과 이온 에너지] [1] 19134

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