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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71133
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688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 844
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1290
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2431
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1527
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1037
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1278
682 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 859
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 805
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD] [1] 2362
679 plasma striation 관련 문의 [Plasma striation] [1] file 721
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 667
677 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 829
676 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 814
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [Plasma cleaning] [1] file 1511
674 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [Pachen's law와 Ar Gas] [1] 1603
673 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1292
672 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 952
671 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1247
670 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 689
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