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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[329]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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672 |
Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지]
[1] | 1038 |
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671 |
CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion]
[1]  | 1333 |
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670 |
AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제
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669 |
플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료]
[1] | 1862 |
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668 |
반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
[1] | 1786 |
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667 |
스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [플라즈마 이온주입 연구실]
[1] | 683 |
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666 |
방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [플라즈마 응용기술]
[1] | 998 |
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665 |
Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase]
[1] | 1235 |
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664 |
RF 파워서플라이 매칭 문제
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663 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp]
[1] | 7539 |
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662 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [RF Power와 reflection]
[1] | 1741 |
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661 |
플라즈마 진단 공부중 질문 [Balance equation]
[1] | 960 |
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660 |
플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE]
[1] | 836 |
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659 |
N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]
[1] | 1953 |
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658 |
플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [Cleaning 후 재활용]
[1] | 729 |
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657 |
etch defect 관련 질문드립니다 [Plasma distribution]
[1] | 1497 |
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656 |
Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground]
[1] | 810 |
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655 |
RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp]
[1] | 1313 |
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654 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [Plasma information과 monitoring]
[1] | 828 |
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653 |
RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias]
[1] | 1388 |
