CCP CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활
2016.12.15 13:35
안녕하세요?
제가 알기로는 CCP는 두 전극사이에서 플라즈마가 일어나는 것으로 알고 있는데, 만약 두 전극 사이에 유전체가 속해진다면, 이 유전체가 어떠한 역할을 하는지 알고 싶습니다.
http://plasma.ee.pusan.ac.kr/xe/sou
위의 사이트에서 보니깐 CCP에 유전체가 원래 있는 것처럼 보이는데, 웹에서 다른 내용을 보면 유전체 이야기는 없는, 단지 두 개의 평행한 전극만 이야기하는 내용도 있어서 궁금해서 글을 올립니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77227 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20468 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68903 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92951 |
806 | Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. | 13 |
805 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 27 |
804 | CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] | 27 |
803 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 39 |
802 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 45 |
801 | Druyvesteyn Distribution | 49 |
800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 54 |
799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 60 |
798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 61 |
797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 69 |
796 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 77 |
795 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 78 |
794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 83 |
793 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 87 |
792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 89 |
791 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 91 |
790 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 92 |
789 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 102 |
788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 113 |
787 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 120 |