Others analog tuner관련해서 질문드립니다.
2017.03.07 16:14
안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.
pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side와 bottom에 달았습니다.
여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77156 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20437 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57340 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92909 |
798 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 145257 |
797 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134459 |
796 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95823 |
795 | Plasma source type | 79718 |
794 | Silent Discharge | 64561 |
793 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54990 |
792 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47958 |
791 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43713 |
790 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41287 |
789 | 대기압 플라즈마 | 40719 |
788 | Ground에 대하여 | 39505 |
787 | RF frequency와 RF power 구분 | 39107 |
786 | Self Bias | 36399 |
785 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35980 |
784 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34967 |
783 | PEALD관련 질문 [1] | 32655 |