안녕하세요 현재 2차원물질 공정을 연구하는 석사과정 대학원생입니다.

이 공정중에는 플라즈마 처리가 있는데요

power가 커짐에 따라 챔버내부의 빛도 밝아지는 것을 볼수 있는 반면에

압력을 30에서 120mTorr으로 증가시켰을때는 어두워지는 것을 관찰하였습니다.

power와 마찬가지로 압력도 밝기에 비례할것이라고 예상하였는데 어떤 이유가 있는지 궁금합니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 76997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20341
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57264
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68808
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92807
401 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2464
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2498
399 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2523
398 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2525
397 Si Wafer Broken [2] 2551
396 질문있습니다. [1] 2587
395 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2591
394 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2594
393 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2670
392 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2678
391 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2696
390 PR wafer seasoning [1] 2707
» 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2737
388 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2805
387 임피던스 매칭회로 [1] file 2834
386 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2844
385 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2846
384 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2896
383 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2902
382 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2925

Boards


XE Login