Chamber component CCP 챔버 접지 질문드립니다.
2018.12.10 23:22
안녕하세요, KAIST 핵융합 및 플라즈마 연구실 소속 석사과정 권대호입니다.
다름이 아니라, 저희 연구실에서 사용하는 CCP 장비에서 접지 관련으로 보이는 문제가 발견되어 질문 드립니다.
첨부한 사진과 같이 구성되어 있는 CCP 챔버에서, 상부전극에는 13.56MHz RF Power 를 인가하고, 하부전극은 수도관에 접지해두었습니다. 또한, 챔버역시 동일한 수도관에 연결하여 접지하여 연결하였습니다. (접지 연결은 동축케이블을 사용하였습니다.)
이후 RF Power 를 인가한 뒤 하부 전극의 전압을 오실로스코프로 측정할 때, 해당 전극을 접지하였음에도 불구하고 13.56MHz 신호가 관측이 되었습니다. 수도관 자체 및 챔버에서 또한 13.56MHz 신호가 관측되었습니다.
처음에는 RF Power 가 제대로 차페되지 않아 생기는 문제로 추측하여 RF Power 또한 수도관에 접지하였으나 동일한 현상이 발생하였습니다. 또한, RF Power를 챔버에 연결하지 않았을 때는 RF Power 를 인가하는 경우에도 수도관 접지에서 신호가 발생하지 않았습니다.
RF Power 인가 후 관측된 13.56MHz 신호의 평균값은 항상 0V로 관측되었습니다. 또한 RF Power 의 크기를 늘릴 때마다 신호의 Vpp 값이 증가하는 것을 관측하였습니다. (RF Power 자체의 Vpp값은 측정장비가 없어 알 수 없는 상황입니다.)
위와 같은 관측을 했음에도 불구하고, CCP 장비 및 전기 장비에 대한 이해도 부족으로 적절하게 접지가 이뤄져 있는 지 조차 판단이 어렵습니다.
이에, 다음 두가지 사항을 질문드립니다.
1. 일반적으로 CCP를 접지하는 방법 혹은 PAL 에서 CCP를 접지하고 있는 방법
2. 위와 같은 구성에서 접지가 적절하게 이뤄져 있는지를 체크할 수 있는 방법
부디 조언 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76897 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57205 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68759 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92719 |
795 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144651 |
794 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134453 |
793 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95775 |
792 | Plasma source type | 79696 |
791 | Silent Discharge | 64561 |
790 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54962 |
789 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47909 |
788 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43709 |
787 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41273 |
786 | 대기압 플라즈마 | 40716 |
785 | Ground에 대하여 | 39483 |
784 | RF frequency와 RF power 구분 | 39092 |
783 | Self Bias | 36391 |
782 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35963 |
781 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34964 |
780 | PEALD관련 질문 [1] | 32647 |