Chamber Impedance 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]

2020.09.25 10:30

이찌 조회 수:2682

안녕하십니까 현재 MF(400kHz) 파워를 개발중에 있는 연구원입니다. 

 

RPG 파워를 개발중에 있습니다. 

개발품으로는 RPG에서 챔버의 유량 (GAS)에 따른 출력이 변화하며 제어 되어야 하는데, 

검출로는  FWD_P, REF_P만을 사용하려 합니다. 

이 두가지 팩터로, 챔버의 임피던스 변화량을 추정 할 수 있는지 궁금합니다. 

 

만약 방법이 있다면 알려주시면 감사하겠습니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80787
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21600
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95312
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 1822
563 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2372
» 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2682
561 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 621
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3429
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16773
558 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1611
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2488
556 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1129
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 851
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 2984
553 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1518
552 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2571
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 787
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1723
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 4978
548 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1246
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation] [1] 10466
546 [RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma] [1] 2794
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1018
쓰기
태그

Boards

XE Login