안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.

관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.

ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.

pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.

 

질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77210
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
» Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1068
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3696
583 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 796
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1691
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1417
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 900
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1150
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 407
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 28612
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1412
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2477
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 475
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1142
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6422
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 828
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 595
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 977
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1538
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1185

Boards


XE Login