안녕하십니까 교수님 항상 성심성의것 답변해 주신것 감사합니다.

 

저는 CCP plasma를 다루는 반도체 장비 회사를 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 여러가지 조건으로 Split test를 하는 와중에 샤워헤드와 척 사이의 갭을 늘렸더니 

 

플라즈마가 켜졌을 때 Matcher의 Vrms가 초반 몇 초 동안 급격히 상승하는 현상이 발생했습니다.

 

운이 없었다면 아킹이 발생하고 웨이퍼가 깨졌을 수도 있었던 상황이라 생각합니다.

 

 

이런 상황에서 pressure를 낮췄을 때는 Gap을 늘려도 상대적으로 안정해지는 경향이 파악 되었습니다.

 

왜 Gap이 커지면 불안정해지고, 여기서 Pressure를 낮추면 Gap이 커져도 상대적으로 안정해 지는 걸까요??

 

감사합니다~!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77244
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20470
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68905
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92954
406 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2409
405 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2432
404 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2436
403 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2445
402 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2479
401 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2506
400 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2507
399 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2535
398 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2568
397 Si Wafer Broken [2] 2571
396 질문있습니다. [1] 2595
395 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2599
394 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2605
393 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2692
392 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2701
391 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2707
390 PR wafer seasoning [1] 2715
389 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2745
388 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2833
387 임피던스 매칭회로 [1] file 2848

Boards


XE Login