Ashing Uniformity 관련하여 문의드립니다.
2021.11.19 14:18
안녕하세요.
Plasma 관련 공부를 처음 시작하게된 엔지니어입니다.
교수님의 설명을 통해 이곳에서 많은 공부를 하고 있는 도중 의문점이 있어 질문 드립니다.
Source Gas의 Uniformity를 관련하여 공부하고 있는데요
Plasma도 처음 시작하게 되었는데 기체의 유동도 많은 관련이 있어 공부를 시작하려 합니다.
진공 상태에서 Gas가 분출되어 나오고, showerhead를 통해 Process 공간으로 분사될 때 Gas의 Density를 대략적으로 계산할 수 있는 식이 있을까요??
예를들면 직경 10Φ의 원형에서 Gas가 분출되어 나오고 Showerhead와의 거리는 A, Showerhead 면적이 100mm x 50mm 일때 Showerhead를 통과하는 기체의 Density를 구할 수 있을까요??
정확하지 않더라도 간단하게 유추정도만 해볼 수 있는 식이 있다면 지도 부탁드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77194 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20458 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57358 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92941 |
| 805 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다.
[1]  | 7 |
| 804 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 20 |
| 803 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 31 |
| 802 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 35 |
| 801 | Druyvesteyn Distribution | 45 |
| 800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 51 |
| 799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 56 |
| 798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 59 |
| 797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 64 |
| 796 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 70 |
| 795 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 75 |
| 794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 77 |
| 793 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 84 |
| 792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 85 |
| 791 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 85 |
| 790 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 90 |
| 789 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 102 |
| 788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 109 |
| 787 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 114 |
| 786 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 117 |