|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[278]
| 76897 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20290 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57207 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68760 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92719 |
|
79 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 22951 |
|
78 |
CCP/ICP , E/H mode
| 23057 |
|
77 |
입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP)
| 23101 |
|
76 |
No. of antenna coil turns for ICP
| 23111 |
|
75 |
고온플라즈마와 저온플라즈마
| 23150 |
|
74 |
DC glow discharge
| 23267 |
|
73 |
CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점.
| 23273 |
|
72 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23346 |
|
71 |
광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요?
| 23412 |
|
70 |
플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다.
| 23458 |
|
69 |
N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요
[2] | 23779 |
|
68 |
Arcing
| 23850 |
|
67 |
플라즈마 쉬스
| 23959 |
|
66 |
plasma and sheath, 플라즈마 크기
| 23990 |
|
65 |
self Bias voltage
| 24093 |
|
64 |
플라즈마에 관해 질문 있습니다!!
| 24123 |
|
63 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24190 |
|
62 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 24364 |
|
61 |
ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24368 |
|
60 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24525 |
