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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 24376 |
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ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
[1] | 24416 |
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플라즈마가 불안정한대요..
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24696 |
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24778 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24784 |
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plasma와 arc의 차이는?
| 24818 |
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스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24897 |
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Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24907 |
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PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24994 |
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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충돌단면적에 관하여
[2] | 26210 |
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dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26237 |
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OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 26270 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26504 |
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self bias (rf 전압 강하)
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이온과 라디칼의 농도
| 27043 |
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플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27227 |
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플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
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