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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성
[1] | 4244 |
461 |
SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문
[1] | 4173 |
460 |
RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 4076 |
459 |
ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다
[2] | 4039 |
458 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다.
[1] | 3997 |
457 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 3995 |
456 |
Plasma 식각 test 관련 문의
[1] | 3981 |
455 |
the lines of magnetic induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문
[1] | 3979 |
454 |
RIE에서 O2역할이 궁금합니다
[4] | 3957 |
453 |
DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문
[2] | 3858 |
452 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해
[1] | 3843 |
451 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다.
[3] | 3828 |
450 |
Descum 관련 문의 사항.
[1] | 3764 |
449 |
Vpp, Vdc 측정관련 문의
[1] | 3735 |
448 |
ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다.
[2] | 3689 |
447 |
플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요?
[1] | 3677 |
446 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3598 |
445 |
CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요?
[3] | 3590 |
444 |
Plasma Etch시 Wafer Edge 영향
[1] | 3580 |
443 |
ESC Cooling gas 관련
[1] | 3577 |