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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68759
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339 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1824
338 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1813
337 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1777
336 터보펌프 에러관련 [1] 1773
335 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1764
334 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1754
333 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1712
332 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1709
331 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1707
330 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1694
329 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1679
328 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1678
327 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1677
326 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1672
325 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1652
324 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1628
323 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1627
322 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1611
321 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1568
320 plasma 형성 관계 [1] 1555
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