Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24787 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77187
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20455
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57355
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68895
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92935
804 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 16
803 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] update 23
802 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 33
801 Druyvesteyn Distribution 41
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 50
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 55
798 플라즈마 식각 커스핑 식각량 57
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 64
796 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 66
795 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 73
794 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 74
793 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 82
792 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 83
791 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 85
790 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 90
789 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 101
788 플라즈마 설비에 대한 질문 106
787 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 113
786 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 115
785 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 116

Boards


XE Login