Deposition 플라즈마 색 관찰
2018.05.08 14:21
안녕하세요, 반도체분야로 취업하려는 취업준비생입니다.
얼마전에 공정실습을 다녀왔었는데요. SiO2 를 PECVD로 증착하는 과정에서 플라즈마 관찰을 했었습니다. process gas로 N2O를 SiH4보다 많이 투입했음에도 불구하고 SiH4의 플라즈마 색이 관찰된 것에 대해서 이유를 분석해보라는 문제를 주셨습니다.
당시에는 두 가스의 플라즈마 색이 갖는 파장이 합성됐을 때 푸리에와 관련해서 나온 현상이라고 이해했었는데, 다시생각해보니 정확한 정리가 잘 되지 않았습니다.
이 현상에 대해서 피드백을 받을 수 있을까요??
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76973 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20329 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57248 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68799 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92791 |
421 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1197 |
420 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 518 |
419 | 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] | 1072 |
418 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17513 |
417 | 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] | 471 |
416 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 854 |
415 | 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] | 710 |
414 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2278 |
413 | 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] | 3450 |
412 | RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] | 5700 |
411 | DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] | 5492 |
410 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 485 |
409 | Si Wafer Broken [2] | 2548 |
408 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1442 |
407 | I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] | 1332 |
406 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 944 |
405 | 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2350 |
404 | OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] | 26227 |
403 | Collisional mean free path 문의... [1] | 795 |
402 | Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] | 2351 |