ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
2018.12.21 07:56
안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.
플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,
Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,
O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.
튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데
매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다.
주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,
혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77330 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20510 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57430 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68968 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92995 |
806 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 145677 |
805 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134465 |
804 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95995 |
803 | Plasma source type | 79733 |
802 | Silent Discharge | 64567 |
801 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 55103 |
800 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 48032 |
799 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43727 |
798 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
![]() | 41321 |
797 | 대기압 플라즈마 | 40728 |
796 | Ground에 대하여 | 39536 |
795 | RF frequency와 RF power 구분 | 39124 |
794 | Self Bias | 36405 |
793 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 36000 |
792 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34988 |
791 | PEALD관련 질문 [1] | 32661 |