랑뮤어 프로브에 관한 논문을 읽다가 궁금하게 생겨 질문 드립니다. 

이온은 프리쉬스 영역에서 0.5(kTe/e)에 해당하는 전압강하를 통하여 bohm속도를 갖게되어 음극쪽으로 끌려가는 것으로 알고 있습니다.

논문에서는 음극에서 수집되는 전류밀도는 일정하므로 이온의 밀도는 감소하며 만약 이 이온의 밀도감소 속도가 전자의 밀도감소 속도보다 빠르게 될 경우 전자가 사라지기 전에 이온밀도가 감소하여 결국 순 전류가 음의 값을 가져 이온의 속도가 증가한다고 합니다. 따라서 이를 해결하려면 쉬스의 양의 공간 전하를 유지하기 위해 이온은 bohm속도에 해당하는 속도로 쉬스로 들어가야 한다고 나와있습니다. 

이 부분이 이해가 되질 않습니다.  프리 쉬스에 의해  bohm속도에 도달한 이온들은 쉬스영역으로 더 잘 끌려간다는 말 아닌가요? 이렇게 되면 이온밀도는 더 감소하게되는것 아닌지... 쉬스의 양의 공간전하 유지를 위해 이온밀도 감소 속도를 낮춰야 한다면서 한편으로는 쉬스영역으로 더 잘 끌려갈 수 있게 bohm 속도를 가져야 한다니... 뭔가 역설적인것 같습니다..

또 프리 쉬스가 생기는 이유에 대해서도 궁금합니다.

또 다른 한 논문에서는 "이온-중성종 간의 약한 충돌이 지배적으로 일어나는 전통적 의미의 프리쉬스 영역이 존재함을 의미" 라고 적혀있는것을 보았습니다.

이온-중성종간의 충돌이 프리쉬스의 형성과 어떤 관련이 있나요?? 아니면 그냥 프리쉬스영역에서 이온-중성종간의 충돌이 일어난다는 뜻인가요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [314] 80566
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21559
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69967
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95167
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속] [1] 1300
483 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance] [3] 3397
482 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3013
481 교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath] [1] 871
480 wafer bias [Self bias] [1] 1266
479 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1234
478 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder] [1] 596
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술] [2] 2274
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1112
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마] [1] 2157
474 PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] 32770
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2554
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성] [1] 3869
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1182
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 836
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘] [2] 4223
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS] [1] 512
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property] [4] 2542
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion] [1] 1245
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1488

Boards


XE Login