Remote Plasma RPS를 이용한 SIO2 에칭
2020.05.15 23:53
안녕하세요 교수님
현재 반도체업에 종사하고 있습니다. 궁금한 게 있어서 질문드립니다.
FSG, USG 공정 후 RPS로 Chamber cleaning 을 진행하고
Ignition에 AR 을 사용, 에칭에 NF3를 단독으로 사용하고 있습니다.
1. NF3 단독 사용과 NF3에 O2를 추가했을 때 장단점이 무엇이 있을까요?
2. NF3가 해리되고 N이 생성되어 질화막을 형성하면 Particle 원인이 될 수 있을까요?
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77330 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20510 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57430 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68969 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92996 |
550 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13216 |
549 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13084 |
548 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12826 |
547 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12820 |
546 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12606 |
545 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12380 |
544 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11765 |
543 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11623 |
542 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11523 |
541 | DC bias (Self bias) [3] | 11373 |
540 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10660 |
539 | RGA에 대해서 | 10562 |
538 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10413 |
537 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10406 |
536 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10342 |
535 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 10052 |
534 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9924 |
533 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9849 |
532 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9689 |
531 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9662 |