Chamber component Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
2020.09.18 08:27
안녕하세요. 문의드립니다.
Etch Chamber 에 Chuck 하부에 RF Bias Cable Feeding 을 위해 대부분의 장비들은 정 가운데로 Feeding 되는것으로
알고 있습니다. 정 가운데 말고 옆으로 5~10센치정도 벗어나 Feeding 을 하게 되면 Chamber 공정 진행에 영향을 주게 될런지?
문의를 드립니다.
답변 부탁드리겠습니다. 감사합니다.
댓글 1
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