Plasma Source ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다.
2020.12.27 15:04
안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.
ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면
RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요
Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77214 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20467 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68901 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92946 |
586 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16975 |
585 | 플라즈마 처리 | 16940 |
584 | ICP 식각에 대하여... | 16939 |
583 | Virtual Matchng | 16860 |
582 | sputter | 16854 |
581 | nodule의 형성원인 | 16774 |
580 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16685 |
579 | 몇가지 질문있습니다 | 16583 |
578 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16523 |
577 | 플라즈마의 어원 | 16350 |
576 | 궁금해서요 | 16324 |
575 | 궁금합니다 [1] | 16181 |
574 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16084 |
573 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16055 |
572 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16024 |
571 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16010 |
570 | k star | 15958 |
569 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15923 |
568 | Sputter | 15902 |
567 | corona | 15896 |