Process 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다.
2021.02.26 13:20
안녕하세요 교수님
반도체 후공정 회사를 다니고 있는 직장인입니다.
공정 진행 후 leakage test 결과 leakage current가 높게 나온 문제점이 발생하였습니다.
내부 엔지니어 문의 결과 O2 descum공정이 metal residue를 없애는데 도움을 준다는 답변을 받았습니다.
따라서 추가적으로 O2 descum을 진행했지만, leakage 문제는 개선되지 않았습니다.
metal residue를 없애기 위해 다른 가스(Ar, H2N2, CF4 등)를 이용한 플라즈마가 더 효과적인지 알고싶어 질문드립니다.
혹은, leakage를 개선할 수 있는 방법이 있다면 조언해주시면 감사드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77195 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20458 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57359 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92941 |
205 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17768 |
204 | 플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서.. | 17779 |
203 | 교육 기관 문의 | 17784 |
202 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17801 |
201 | 플라즈마 온도중 Tr의 의미 | 17818 |
200 | capacitively/inductively coupled plasma | 17828 |
199 | QMA에서 electron beam의 generation 과정 [1] | 17860 |
198 | 플라즈마 응용분야 | 17870 |
197 | electrode gap | 17968 |
196 | Plasma of Bio-Medical Application | 18009 |
195 | 플라즈마를 알기위해서는 어떤것을 알아두는 것이 좋.. | 18023 |
194 | Plasma Gas의 차이점 [1] | 18030 |
193 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18042 |
192 | 플라즈마의 정의 | 18048 |
191 | Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? | 18052 |
190 | DBD plasma | 18103 |
189 | 증착에 대하여... | 18111 |
188 | 진로상담 | 18155 |
187 | rotational vibration excitation | 18194 |
186 | 저온 플라즈마에 관한 질문 | 18198 |