Plasma in general low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜.
2021.04.09 12:04
안녕하세요, 교수님. 반도체 업종 엔지니어로 일하고 있는 김기영입니다.
다름 아니라 보통 Pressure 영역대가 낮아질수록 아킹이 더 잘 발생한다고 하는데
왜 Low Pressure 영역이 High Pressure 영역보다 Arcing 이 취약한지 문의드립니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77213 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20465 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57362 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68901 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92946 |
| 306 | ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] | 7134 |
| 305 | RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] | 7340 |
| 304 | 정전척 isolation 문의 입니다. [1] | 7676 |
| 303 | CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] | 7678 |
| 302 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7714 |
| 301 | MFP에 대해서.. [1] | 7838 |
| 300 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8078 |
| 299 | 고온 플라즈마 관련 | 8091 |
| 298 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8132 |
| 297 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8158 |
| 296 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
| 295 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8585 |
| 294 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8587 |
| 293 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8636 |
| 292 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1]  | 8637 |
| 291 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8672 |
| 290 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8775 |
| 289 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8792 |
| 288 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8811 |
| 287 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8942 |