안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.

 

언제나 친절한 답변 감사 드립니다.

 

다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.

 

Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면

 

파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데

 

왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.

 

저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데, 

 

플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. 8
805 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 21
804 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 22
803 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 36
802 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 40
801 Druyvesteyn Distribution 47
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 54
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 58
798 플라즈마 식각 커스핑 식각량 60
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 67
796 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 73
795 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 76
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 82
793 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 86
792 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 87
791 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 90
790 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 91
789 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
788 플라즈마 설비에 대한 질문 110
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 118

Boards


XE Login