안녕하세요 교수님. 항상 친절한 답변 감사드립니다.

 

회사를 다니면서 공부를 하다보니 제가 부족한 부분이 많아 자꾸 찾아뵙게 되네요.

 

현재 염근영 교수님의 '플라즈마 식각기술' 이라는 책을 공부하고 있는데요.

 

읽다보니 간단한것 같은데 이유를 모르겠는게 있어서 문의 드립니다.

 

Pressure가 공정에 미치는 영향 중에 압력이 낮아지면 rf voltage가 높아진다고 나와있는데 그 이유가 궁금합니다.

 

그리고 이 전압이라함은 플라즈마와 전극 사이의 전압을 말하는건가요?

 

제가 전기쪽으로는 지식이 많이 부족해서 헷갈립니다 ㅜㅜ 

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77310
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20506
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57415
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68958
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92990
» RF 전압과 압력의 영향? [1] 1730
469 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1733
468 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1743
467 터보펌프 에러관련 [1] 1788
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1791
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1804
464 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1828
463 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1850
462 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1878
461 가입인사드립니다. [1] 1882
460 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1886
459 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1886
458 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1887
457 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1917
456 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1933
455 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1933
454 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1935
453 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1954
452 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1959
451 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1969

Boards


XE Login