Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유
2022.07.08 16:18
안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.
다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.
Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때
Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [287] | 77333 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20511 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57431 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68970 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92997 |
530 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9566 |
529 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9540 |
528 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9287 |
527 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9275 |
526 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9078 |
525 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9039 |
524 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8949 |
523 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8885 |
522 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8818 |
521 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8790 |
520 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8705 |
519 |
N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다.
[1] ![]() | 8654 |
518 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8649 |
517 | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8592 |
516 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8587 |
515 | 핵융합에 대하여 | 8565 |
514 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8166 |
513 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8135 |
512 | 고온 플라즈마 관련 | 8091 |
511 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8086 |