Deposition Compressive한 Wafer에 대한 질문
2023.06.03 11:56
현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.
최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.
Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76895 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57205 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92719 |
779 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 139 |
778 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 143 |
777 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 143 |
776 | Microwave & RF Plasma [1] | 144 |
775 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 155 |
774 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 157 |
773 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 170 |
772 | corona model에 대한 질문입니다. [1] | 171 |
771 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 173 |
770 | skin depth에 대한 이해 [1] | 179 |
769 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 187 |
768 | 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] | 189 |
767 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 191 |
766 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] | 197 |
765 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 202 |
764 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 203 |
763 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 208 |
762 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 211 |
761 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 217 |
760 | 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] | 226 |