RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

혹시 이 현상에 대한 원리에 대해 답변 주시면 너무 감사하겠습니다.

RF 300W 기준입니다. 부탁드리겠습니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77218
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92949
766 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 223
765 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 225
764 skin depth에 대한 이해 [1] 226
763 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 229
762 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 233
761 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 248
760 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 251
759 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 251
758 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 259
757 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 262
756 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 264
755 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 273
754 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 281
753 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 285
752 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 291
751 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 302
» RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 312
749 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 328
748 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 333
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 337

Boards


XE Login