Etch RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?
2023.08.30 08:55
RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.
위에 현상에 대한 정보가 부족 하지만 답변 주셔서 감사합니다.
특이사항이 CF4, Ar Gas 에서는 위에 현상이 나타나지않으며 SF6 가스에만 위에 현상이 나타나는건 Gas의 특성이라고 보면될까요?
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77065 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20383 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57293 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68839 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92841 |
761 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 222 |
760 | 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] | 226 |
759 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 236 |
758 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 240 |
757 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 242 |
756 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 259 |
755 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 260 |
754 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 270 |
753 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 274 |
752 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 278 |
751 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 295 |
750 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 306 |
749 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 307 |
748 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 325 |
747 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 325 |
746 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 326 |
745 | RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] | 329 |
» | RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] | 333 |
743 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 339 |
742 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 340 |