Others Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다.
2023.10.19 19:41
안녕하십니까
플라즈마 장비 관련하여 공부하던 중 아킹 관련하여 궁금증이 생겨 문의드립니다.
혹시 웨이퍼를 잡아주는 엣지링이나 전극의 소재 특성을 바꾸어 주어 방전 효과를 준다면 아킹을 줄일 수 있을지 문의드립니다.
추가로 엣지링의 전도도와 같은 특성을 변경한다면 쉬스 영역에 변화가 생길지도 문의드립니다.
( 전도도가 높을 때와 낮을 때 쉬스의 변화가 있는지 궁금합니다.)
아직은 지식이 많이 부족한 상태입니다. 많은 도움 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77272 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20485 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57401 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68922 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92970 |
767 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 162 |
766 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 103 |
765 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 212 |
764 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 352 |
763 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 405 |
762 | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 219 |
761 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 253 |
760 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 616 |
759 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 766 |
758 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 152 |
757 | CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] | 457 |
756 | 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] | 203 |
755 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 286 |
754 | PECVD Uniformity [1] | 612 |
753 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 702 |
752 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 275 |
751 | standing wave effect, skin effect 원리 [1] | 456 |
» | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 338 |
749 | RF 주파수에 따른 차이점 [1] | 802 |
748 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 | 433 |