Remote Plasma Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해]

2023.12.18 02:36

Lkh 조회 수:1102

안녕하세요.

Remote plasma source에 대해 질문 드립니다!

 

Cleaning을 위한 Remote plasma source에 사용되는

 

전원회로의 주파수가 주로 400kHz인 이유가 있을까요?

 

400kHz를 썼을 때 어떤 특성이 좋아지는건가요?

 

감사합니다!

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 80059
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21455
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58244
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69837
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94885
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 246
783 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 203
782 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 424
781 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 364
780 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 263
779 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 156
778 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 581
777 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 276
776 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 326
775 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 256
774 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 119
773 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 711
772 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 214
771 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 328
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능] [2] 493
769 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 124
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 380
767 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 209
766 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 138
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 271
쓰기
태그

Boards

XE Login