Others Microwave & RF Plasma

2024.03.11 16:59

rodman 조회 수:178

안녕하세요. Plasma cleaner 장비 업체에 근무중인 직원 입니다.

 

저희는 RF 타입의 Plasma claner 장비를 제조 합니다.

다름이 아니라, Microwave 방식과 RF 방식의 차이를 자세히 알고싶습니다.

어떤 방식이 효과가 더 좋은지... 

각 방식의 장단점에 대해 자세히 알고 싶습니다.

 

특히... 동남아지역 장비 유저들은 Microwave 방식을 선호 한다고하는데... 이에 대한 근거가 무었일까요?

 

불쑥 질문만 드려 죄송합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77298
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20493
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57412
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68942
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
790 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 104
789 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 113
788 플라즈마 설비에 대한 질문 123
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 129
786 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 129
785 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 137
784 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 141
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 146
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 147
781 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 148
780 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 152
779 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 163
778 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 165
777 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 168
776 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 176
» Microwave & RF Plasma [1] 178
774 corona model에 대한 질문입니다. [1] 179
773 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 181
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 195
771 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 201
쓰기
태그

Boards

XE Login