ESC dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
2010.05.18 11:04
ESC 관련회사에 다니는 김기권입니다.
LCD 공정에서 각 단계별 과정을 거친 후 dechucking시 Glass가 ESC(Electrostatic Chuck)로부터 방전되지 못하고, 잔류되어 있는 극성을 띤 전하(Electric charge)들에 의해 Glass 와 ESC 사이에 인력이 발생하여 Glass broken 문제가 발생했습니다. ESC 는 6개월 정도 사용중이었고 고객사에서는 ESC 에 문제로 추정하고 있습니다. Glass broken 문제에 관하여 ESC 의 문제로만 볼수있는지... 아님 Etcher 장비에도 문제가 있을수 있는지 궁금합니다.
댓글 3
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77297 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20493 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57412 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68942 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
810 | 플라즈마 장비 내부 온도 측정법 [1] | 12 |
809 | micro arc에 대해 질문드립니다. [1] | 14 |
808 | Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [2] | 19 |
807 | Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [1] | 38 |
806 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 43 |
805 | Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] | 43 |
804 | Druyvesteyn Distribution | 53 |
803 | CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] | 58 |
802 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 60 |
801 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 64 |
800 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 68 |
799 | Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] | 72 |
798 | CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] | 76 |
797 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 83 |
796 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 87 |
795 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 89 |
794 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 91 |
793 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 93 |
792 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 98 |
791 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 99 |