Etch RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이

2017.01.17 17:27

블라디 조회 수:6314

안녕하세요.


RPS를 이용해 NF3와 CF4 Etch Rate 차이를 보고 싶은데..

Infra가 없어 부득이하게 연구 기관을 통해 Test 진행을 하려고 합니다.

근데 RPS에는 NF3 라인만 연결이 되어 있고 CF4의 경우 Chamber로 Direct 들어가게 되어있는데요.

Chamber내 Plasma Power 및 다른 parameter를 조절해 RPS 같이 구현이 가능할까요?

제가 알기로는 Remote와 Direct Plasma는 주파수 자체가 달라서 힘들거 같은데요.


미리 답변 감사합니다.

수고하세요.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77187
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20456
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57355
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68895
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92935
344 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6461
343 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8634
342 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1914
341 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 470
340 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 941
339 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5220
338 가입인사드립니다. [1] 1881
337 문의 드립니다. [1] 880
336 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 667
335 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1412
334 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1442
333 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1074
332 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6321
331 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1460
330 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 378
329 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5969
328 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 985
» RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6314
326 핵융합 질문 [1] 576
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 639
쓰기
태그

Boards

XE Login