Others Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
2017.10.25 07:56
안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~
장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77153 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20433 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57340 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92907 |
382 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2310 |
381 | etching에 관한 질문입니다. [1] | 2296 |
380 | RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 | 2292 |
379 | ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2280 |
378 | 플라즈마볼 제작시 [1] | 2265 |
» | Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] | 2257 |
376 | 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] | 2256 |
375 | 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] | 2183 |
374 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2162 |
373 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2160 |
372 | [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] | 2147 |
371 | Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] | 2135 |
370 | ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] | 2134 |
369 | LF Power에의한 Ion Bombardment [2] | 2122 |
368 | doping type에 따른 ER 차이 [1] | 2084 |
367 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2044 |
366 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2042 |
365 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 2032 |
364 | CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] | 2029 |
363 | chamber impedance [1] | 2023 |