안녕하세요 직장에서 플라즈마를 사용하는 일반 사원입니다.

챔버내에서 Shower Head와 기판사이에서 기판과 가까운(솟아나온부분) 곳에서 생기는 박막형에 비해 기판과 먼(옆 테두리들어간 부분)곳에 생기는 부산물들이 기존의 박막층보다 엉성하고 입자가 큰 경우 기존의 받아들이던 플라즈마 값에서 변화가 일어나는데 이러한 점을 줄일 수 있는 방법이나 이론을 알고싶어 글 남깁니다. 또한 실제로 이 부산물들이 플라즈마에 어떤 영향을 미치는지 알고싶습니다.semiconductor shower head에 대한 이미지 검색결과

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77188
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20456
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57355
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68896
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92937
384 ICP 후 변색 질문 742
383 Plasma etcher particle 원인 [1] 3047
382 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 2366
381 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 343
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4385
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1038
378 고진공 만드는방법. [1] 1020
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 429
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 699
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1325
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 471
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 770
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5999
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2744
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3460
369 활성이온 측정 방법 [1] 577
» rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1473
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2264
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1785
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2346

Boards


XE Login