안녕하세요. 교수님.

현재 반도체 장비업체에서 Dry etch관련 공정 업무를 수행하고있는 연구원입니다.

평소 플라즈마에 대해 공부하며 다른 사람의 질의응답들을 참고하곤 했었는데, 처음 질문글을 남기게 되네요.

플라즈마 관련 공부 및 실험을 진행하다 궁금한 사항이 있어, 질의를 드립니다.

1. 플라즈마를 방전시켰을때, 발생하는 arcing현상이 발생하는 이유가 뭔지 궁금합니다.

   절연 물질이 절연파괴가 되면서 해당 부분으로 전하가 축적되어 전하차이에 의해 발생하는건가요?

   arcing현상을 줄이기위한 방법들은 어떤 것들이 있을까요? 절연층을 두껍게한다거나, Ground 접지를 이용한 방법들 외 다른 방법들도

   있는지요?

2. 추가로 비슷하게 Local plasma? 플라즈마 방전시 안정화되지 못하고 깜빡거리는 현상역시 발생하는 이유에 대해 궁금합니다.

    사용하고 있는 parameter는 Pressure,  gas, Power 등인데, 각 parameter들이 플라즈마 방전이 발생하기에 부족하거나 불안정하여

    발생되는 현상인가요?

감사합니다.