Process 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다

2020.08.20 13:11

이재혁 조회 수:709

안녕하세요

접착력 증가를 위한 플라즈마 처리를 하고 있습니다.

문제는 불소계필러가 들어간 이미드 필름을 에폭시에 붙이려하는데 잘되지 않아서 

표면처리 후 접착력을 증가시켜 보려고합니다.

현재 Ar+H2 로 하고있고 접착력이 증가하긴 하지만 탁월한효과는 못보고있습니다.

혼합가스를 바꾸어보라는 말도있고 소스를 바꿔보라는 말도있던데 

혼합가스 종류나 다른 방법이있을까요 ? 


궁금합니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76893
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57204
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92718
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16669
558 알고싶습니다 [1] 1471
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2341
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 970
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 763
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2834
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1446
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2494
» 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 709
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1611
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4540
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1133
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10386
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2505
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 899
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3815
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 490
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2299
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1856
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3771
쓰기
태그

Boards

XE Login